Kép- és hangtechnika, 1958 (4. évfolyam, 1-6. szám)
1958-02-01 / 1. szám
A fotográfiai érzékenység természetéről K. V. CSIBISZOV akadémikus (Moszkva) előadása a Tudományos és Alkalmazott Fotográfiai Konferencián A „fotográfiai érzékenység“ kifejezés alatt a fotográfiai kép nyerésére alkalmas emulzió-mikrokristályok tulajdonságainak összességét értjük. A fizikai-kémiai szempontból legfontosabb tulajdonságokhoz tartozik a fényérzékenység és a spontán előhívhatóság. Ismeretes, hogy e tulajdonságok az emulziómikrokristályok strukturális érzékenység csoportjába tartoznak (1). Ezzel összefüggésben a fényérzékenység természetének, a látens kép kialakulásának és látható képpé való átalakulásának megismerésére mindenekelőtt azon hibahelyek természetét kell a reális mikrokristályokban vizsgálni, amelyek azt kémiailag és fotokémiáikig labilissá teszik. A lokális hibahelyek kétféle tulajdonságúak lehetnek : beszélhetünk egyrészt a kristályrács hiányosságairól, másrészt utólag képzett rácshibákról (2). Egészen a legutóbbi időkig csak az utólag képzett centrumok hibahelyeit (az ún. fényérzékenységi gócokat) vizsgálták az emulzió - mikrokristályokban, s most újabban az első típusú hibahelyekkel kapcsolatban is hozzájutottunk kísérleti adatokhoz. Jelen közleményünkben három kérdést tárgyalunk, amelyek különböző szempontok szerint világítják meg a fotográfiai érzékenység természetét : az emulzió-mikrokristályok lokális hibáit, keletkezésük módját és az érlelésnél való szerepüket, és a hibahelyek szerepét a megvilágításnál és az előhívásnál. 1. Az emulzió-mikrokristályok lokális hibái izolált mikrokristályok fotolízisének megfigyelésénél (3, 4) a látható ezüstrészecskék képződése a szembetűnő : előbb a kristályok középtáján, majd a szélein. Relatív kicsiny emulziókristályoknál a fotolitikus ezüst lerakódásakor bizonyos geometriai törvényszerűségek voltak megfigyelhetők (5) (1. ábra). Hedges és Mitchell kísérletei (6), amelyeket hosszan melegített mikrokristályokkal végeztek, azt mutatták, hogy a hibahelyektől mentes kristályokon fotolitikus ezüst nem válik ki, így elfogadható az a nézet, hogy az ezüstleválás helyei az emulzió-mikrokristályok lokális hibahelyeinek jelenlétét mutatják. Hasonló hibahelyek létezéséről úgy is meggyőződhetünk, ha a mikrokristályokra ezüstbromidot oldó anyagokat engedünk hatni. Evans, Mitchell és Klein (7) kimutatták, hogy ilyenkor a kristály közepén és a szélein bemaródások képződnek. Különösen jellegzetes az a geometriai törvényszerűség, amely szerint ezek a bemaródások a széleken elhelyezkednek, nevezetesen három, egymással 120 fokot bezáró irányban. A 2. ábrán mikrofotográfiákat látunk (3), amelyek a mikrokristályok bemaródását mutatják azelőhívás kezdetén. Ez a jelenség következőképpen magyarázható : a szilárd fázis kiválása a kristályosodási gócok keletkezésével indul meg, amelyek kezdet- 1. ábra. Az ezüsthalogén kristály fotolízisének geometriai törvényszerűsége . A . emulzió-mikrokristályok fotolízise. A 15 percenként készült felvételek a folyamat menetét mutatják (2500 x)—,,B“.A fotolízis egyes pillanatai (2500 x) — ,,G“. A AgBr kristály fotolízisének vektoriális képe (1000 x). (L. A. P. A. Trivelli, S. E. Sheppard, Phot. Journ. 63, 334, 1923)